ThalesNano- 泰雷茲納諾中國授權代理商

公司介紹：ThalesNano Inc. 泰雷茲納諾公司是一家創新驅動型公司，專注于開發臺式流動化學儀器和解決方案，以應對合成化學挑戰。

公司于2002年在匈牙利布達佩斯成立。從那時起，泰雷茲納諾在美國辦事處和全球分銷商網絡的幫助下，在全球范圍內開展業務。目前，我們的儀器在全球使用超過1500種。我們的使命是使流動化學成為日常實驗室例行程序的一部分，并使化學過程更安全，更輕松，更有效。我們非常重視通過協助科學合作和教育來支持研究和開發。

我們在市場上的第一臺儀器，H-Cube連續流動加氫反應器于2004年推出。該儀器具有突破性的創新氫氣發生器以及流動化學技術的優勢。它已獲得研發TOP -100獎，并被全球數百家實驗室使用。近年來，H-Cube已成為加氫的新行業標準。

為了滿足市場需求，泰雷茲納諾開發了新的連續流動反應器，以覆蓋壓力和溫度方面擴展的化學空間。如今，該公司擁有*泛的實驗室規模儀器產品組合，適用于制藥，生物技術，精細化學品，香精香料，農用化學品和石化市場，以及學術研究小組和教育。

我們的產品系列解決了具有困難或危險反應的日常問題。我們提供方便、安全的替代方案，具有易重復性。此外，溫度范圍為-70至1000°C，壓力從真空到200 bar，可實現新的化學參數窗口，否則在間歇工藝中無法實現。

關于催化加氫

催化加氫是當今化工行業最重要的轉變之一。多相催化加氫除其他外，用于以下轉變：

• 雙鍵或三鍵減少

• 硝基減少

• 脫芐化反應

• 雜環飽和度

• 脫鹵反應

• 脫硫反應

• 不對稱加氫

加氫通常使用間歇技術進行。然而，這些反應有許多缺點：

• 使用氫氣瓶是一種危險。

• 催化劑本身可能是自燃的，使得這些催化劑的添加或過濾變得危險。

• 溶劑的脫氣和惰性氣體對反應器的吹掃使反應過于復雜。

• 氫氣與溶劑和催化劑的混合較差，導致反應時間長。

所有這些缺點的結合意味著化學家試圖避免這種有用的轉變。在泰雷茲納諾，我們開發了H-Cube系列，以確保以安全簡便的方式再次在實驗室中使用加氫。

關于流動化學

什么是流動化學？

當進行流動化學轉化時，反應發生在溶解試劑的連續流動中。應用的流動反應器可以是固定床型反應器，其中反應混合物通過固體催化劑或試劑，也可以是管式反應器，其中原料，試劑或催化劑均勻溶解在溶液中并通過加熱或冷卻區泵送。反應線的內徑通常在千分尺范圍內。由于反應是連續進行的，因此在給定時間只有一小部分反應混合物。與標準間歇工藝相比，以這種方式進行化學處理具有許多優勢：

• 縮短反應時間

• 改進的溫度控制

• 多步合成

• 提高選擇性

改善反應時間和混合：加快反應速度

反應器的批量越大，實現均勻混合的難度就越大，如下圖所示。

參考：約翰·古德爾在流動化學中的演講

低流量的化學反應器加上對反應混合物流量的精確控制意味著通過擴散實現精確和可重復的混合，只需幾厘米。

這導致反應的再現性增加。

改進的混合還可以縮短反應時間，特別是在使用固定床反應器時。

在固定床反應器中，反應混合物被推過固體試劑或催化劑。與反應混合物相比，催化劑/試劑的比例要高得多。反應混合物穿過固體顆粒產生的通道，并在通過反應器長度時連續相互作用。反應混合物不能幫助，但與固體催化劑/試劑相互作用。這可能導致反應速率增加幾個數量級。如果將其與間歇反應進行比較，則固體催化劑與其他反應混合物相比，化學計量學較低，因此將所有材料吸附到催化劑表面上將花費更長的時間。H-Cube系列均采用固定床反應器，可大大縮短反應時間。

改進的溫度控制

在流動化學反應器中，表面積與體積比遠高于普通間歇反應器。這有兩個后果。熱量可以更有效地去除，也可以非常快速地將熱量放入反應混合物中。

快速加熱

如果溶劑具有偶極矩，那么微波技術是在間歇反應中加熱溶劑的最快方法，特別是與油浴加熱方法相比。流動化學反應器的表面積體積比得到改善，這意味著流動化學反應器還能夠模擬微波的快速傳熱，其中反應混合物僅在幾秒鐘內被加熱到設定溫度。這導致流動化學反應器被用于微波反應放大。流動反應器的另一個優點是可以使用沒有偶極矩的溶劑。

流動化學反應器、微波或油浴的傳熱比較實驗。

高溫高壓能力

流動化學反應器通常采用HPLC部件。HPLC是另一種形式的流動化學，但用于分離。背壓調節器，其中閥門對反應混合物的流動產生阻力，可以產生高壓。在泰雷茲納諾，我們利用這些背壓反應器產生超過100 bar的壓力。當與快速傳熱相結合時，這意味著我們可以將低沸點溶劑加熱到超過其沸點。高溫受到施加的壓力和溶劑分解的限制。這種方法允許用戶避免使用高沸點溶劑，這些溶劑要么更昂貴，要么更難去除。

使用我們的鳳凰流動反應器™，我們可以實現高達450°C和100 bar的反應參數。當我們在超過300°C的溫度下使用THF合成雙環雜環時，我們利用了這一點，見下圖。當應用于吸熱反應和反應時間長的反應時，高溫和高壓的應用特別有用。

ThalesNano- 泰雷茲納諾中國授權代理商

1．設備名稱：氫氣發生器

2．用途：

H-Genie®是研發TOP 100屢獲殊榮的緊湊型氫氣發生器，，利用壓力池技術生產4.0純度的H2，從水到高達 100 bar （14.5–1450 psi） 的氫氣，流速高達 1 NL/min。

H-Genie是一款提供可變氣體流速，反應監測和壓力能力的氫氣發生器，可實現擴展和更快的化學。H-Genie是為間歇化學和流動化學應用提供高壓氫氣的理想解決方案。該系統設計用于任何實驗室，以擴展您的化學能力。

產品特點：

只需去離子水，不需要壓縮機

使用壓力拓展了實驗壓力范圍

用一個H-GENIE就可以供應多臺反應釜使用

內部配有H2探測器，可實現自動關機

占地面積小，節省空間

流量、壓力和體積控制

適用于大流量和小流量規模

自動干燥系統：沒有干燥劑桶

簡單的使用和設置：只需點擊即可

適用于任何實驗室和反應釜

ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發生器

技術參數：

氫氣產生速率：0.1-1NL/min

輸出壓力范圍：1-100bar

氣體純度：≥99.99%（4.0@100bar）

水的純度：建議去離子水的純度<1μS/cm

水的消耗速率：<200cm3/hr

儲水量：內部：3L

建議環境：實驗室通風櫥

功率要求：電源：100V to 240V AC, 47– 63Hz

功率消耗：**大1500VA

儀器尺寸：345mm×365mm×460mm

儀器重量：38kg

出口參數：1/8英寸外徑的管線，出口閥可以與1/8"外螺紋管線相連接。

操作和存儲/運輸環境：10–35 °C；< 80% RH。